W miarę zbliżania się terminu nałożenia taryf na chińskie towary przez USA, o wartości 34 miliardów dolarów, można spodziewać się wybuchu największego konfliktu handlowego od czasu nawiązania stosunków dyplomatycznych między Chinami i USA. Przyczyną rozpoczęcia wojny handlowej według Białego Domu jest „niewystarczająca ochrona własności intelektualnej". Czy tak jest naprawdę?
Według brytyjskiego portalu Raconteur.net, Chiny w ostatnim czasie stały się dla firm zagranicznych ulubioną lokalizacją sporów dotyczących własności intelektualnej. Tylko w 2015 roku 65 spółek zagranicznych złożyło w Pekinie wnioski do sądów o naruszenie praw własności intelektualnej innych firm zagranicznych i wygrało procesy.
Oprócz "sprawiedliwości sądowej" zaletą jest także krótki czas samych procesów. Trybunał Własności Intelektualnych w Pekinie realizuje wnioski zagranicznych firm w okresie około 4 miesięcy, gdzie w Unii Europejskiej trwa to 18 miesięcy, a w USA nawet 29 miesięcy.
Coraz więcej zagranicznych firm decyduje się na wszczęcie sporu w Chinach, mając zaufanie do chińskiego systemu ochrony własności intelektualnej.
Przewodniczący Chin Xi Jinping oznajmił, że należy zwiększyć kary za naruszenie praw własności intelektualnej, tak aby przestępcy płacili wysoką cenę. Jego zdaniem, wzmocnienie ochrony praw własności intelektualnej jest nie tylko najważniejszym elementem do poprawy systemu, ale także największym bodźcem do zwiększenia konkurencyjności gospodarczej Chin. Podczas tegorocznego Forum Boao, Xi wyraził nadzieję, że zagraniczne rządy także wzmocnią ochronę praw własności intelektualnej chińskich przedsiębiorstw.
Obecnie USA ze względu na tzw. "niewystarczającą ochronę praw własności intelektualnej" prowokując wojnę handlową, jednak prawdziwym celem jest ograniczenie rozwoju naukowego, technologicznego i gospodarczego Chin. Strona chińska nie boi się konfliktu i będzie walczyć. Jednocześnie Chiny będą nadal zwiększać ochronę praw własności intelektualnej i nigdy nie zrezygnują z działań w zakresie zaawansowanych technologii.
